Plat Penapis

Plat Penapis Getah

Plat membran tervulkan fleksibel untuk pengedapan rapat, pemerasan sekunder dan lembapan kek penapis yang lebih rendah.

Siri Plat Penapis

Plat Penapis Getah

Plat penapis getah ialah plat membran elastik yang dihasilkan melalui pemvulkanan komposit untuk pemampatan sekunder dengan udara atau air. Daripada bertindak sebagai plat kebuk tegar, permukaannya yang boleh mengembang memampatkan kek yang telah terbentuk untuk meningkatkan penyahairan dan mengurangkan kelembapan sisa.

Bahan utamaGetah asli diperkuat / getah EPDM
Suhu kerja berterusan≤75℃
Suhu sekejap≤80℃
Rintangan pH2~12
Tekanan pemampatan standard0.8MPa~1.5MPa
Jenis strukturPlat penapis membran getah bersepadu

Penerangan Produk

Getah asli atau EPDM yang divulkan secara komposit membentuk permukaan membran boleh kembang untuk peringkat pemerasan dalam penekan membran. Selepas ruang diisi, tekanan udara atau air mengembangkan plat dan memampatkan kek, meningkatkan kekeringan akhir melebihi peringkat penapisan awal. Julat pemerasan yang disenaraikan ialah 0.8–1.5 MPa, dengan perkhidmatan berterusan hingga 75°C dan julat pH 2–12. Tugas lazim termasuk enap cemar perbandaran, pigmen, kalsium karbonat, sisa percetakan dan pencelupan, serta buburan makanan atau farmaseutikal bersuhu rendah terpilih. Nyatakan medium pengembangan, tekanan pemerasan, kekerapan kitaran, pendedahan kimia dan kelembapan kek yang diperlukan semasa memadankan membran; keanjalan dan pemulihan mampatan adalah penting untuk hayat perkhidmatan dan prestasi pengedapan.

Ciri-ciri Utama

Permukaan boleh kembang membolehkan udara atau air

Permukaan boleh kembang membolehkan pemerasan udara atau air untuk kelembapan kek yang lebih rendah

Keanjalan dan pemulihan mampatan yang baik

Keanjalan dan pemulihan mampatan yang baik

Rintangan haus untuk asid lemah dan alkali lemah

Rintangan haus untuk buburan asid lemah dan alkali lemah

Pengedapan ketat mengurangkan kebocoran buburan

Pengedapan ketat mengurangkan kebocoran buburan

Permukaan fleksibel mudah dibersihkan

Permukaan fleksibel mudah dibersihkan

Spesifikasi Teknikal

ParameterPlat Penapis GetahJulat Tersuai
Bahan utamaGetah asli diperkuat / getah EPDMBoleh disesuaikan atas permintaan
Suhu kerja berterusan≤75℃Boleh disesuaikan atas permintaan
Suhu sekejap≤80℃Boleh disesuaikan atas permintaan
Rintangan pH2~12Boleh disesuaikan atas permintaan
Tekanan pemampatan standard0.8MPa~1.5MPaBoleh disesuaikan atas permintaan
Jenis strukturPlat penapis membran getah bersepaduBoleh disesuaikan atas permintaan
Proses pengacuanPemvulkanan sekali gus pada suhu tinggiBoleh disesuaikan atas permintaan
Saiz biasa800/1000/1250/1500mm dan tersuaiBoleh disesuaikan atas permintaan

Aplikasi

Penyahairan enapcemar kumbahan perbandaran
Penyahairan enapcemar kumbahan perbandaran
Buburan mineral, pigmen dan kalsium karbonat
Buburan mineral, pigmen dan kalsium karbonat
Enapcemar percetakan, pencelupan dan penyaduran elektrik
Enapcemar percetakan, pencelupan dan penyaduran elektrik
Buburan suhu rendah makanan dan farmaseutikal
Buburan suhu rendah makanan dan farmaseutikal
Buburan pembinaan, kaolin dan seramik
Buburan pembinaan, kaolin dan seramik

Bersedia Mencari Penyelesaian Penapis yang Tepat?

Hubungi pasukan teknikal kami untuk sampel, sebut harga atau spesifikasi tersuai.